Hitachi lance le nouveau DCR Etch System 9060 pour une fabrication de semi-conducteurs 3D précise. Hitachi launches new DCR Etch System 9060 for precise 3D semiconductor manufacturing.

Hitachi High-Tech Corporation a introduit la DCR Etch System 9060 Series, conçue pour l'emboutissage isotrope précis des dispositifs à semi-conducteurs 3D avancés au niveau atomique. Hitachi High-Tech Corporation has introduced the DCR Etch System 9060 Series, designed for precise isotropic etching of advanced 3D semiconductor devices at the atomic level. Ce système utilise la technologie de gravure au plasma pour obtenir des résultats à faible dommage et à haute précision et comprend un mécanisme de refroidissement unique pour améliorer l'efficacité. This system uses plasma etching technology for low-damage, high-precision results, and includes a unique cooling mechanism to enhance efficiency. Il vise à aider les fabricants de semi-conducteurs complexes à réduire les coûts et à améliorer la productivité. It aims to help manufacturers of complex semiconductors reduce costs and improve productivity.

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