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SK Hynix introduit une technologie EUV avancée, réduisant les transistors et stimulant la production de mémoire.
SK Hynix est devenu le premier à introduire la technologie de lithographie High NA EUV pour la production de masse dans son usine M16 en Corée du Sud.
Ce nouveau système, TWINSCAN EXE:5200B d'ASML, permet aux transistors de 1,7 fois plus petits et de densités 2,9 fois plus élevées que les systèmes EUV existants.
SK Hynix vise à simplifier les processus de production, à accélérer le développement de la mémoire de next-gen et à renforcer sa position sur le marché grâce à cette technologie avancée.
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SK Hynix introduces advanced EUV tech, shrinking transistors and boosting memory production.