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La Chine teste la machine de lithographie UV profonde pour les puces 7nm, visant à réduire la dépendance à la technologie américaine et néerlandaise.
La société chinoise SMIC teste sa première machine de lithographie à ultraviolets profonds, construite au pays, développée par la startup de Shanghai Yuliangsheng, qui marque des progrès vers l'autonomie dans la fabrication de semi-conducteurs.
La machine vise à soutenir la production de 7nm et peut s'étendre à 5nm, bien que les taux de rendement restent faibles en raison des défis d'alignement.
Cet effort, qui est dû à la demande intérieure croissante des entreprises d'IA et à la pression du gouvernement pour la technologie interne, vise à réduire la dépendance à l'égard des équipements étrangers, en particulier de l'ASML, dans le cadre des restrictions à l'exportation actuelles aux États-Unis.
China's SMIC tests homegrown deep UV lithography machine for 7nm chips, aiming to cut reliance on U.S. and Dutch tech.